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正膠顯影液TMAH 四甲基氫氧化銨 能選擇性地溶解未曝光的光刻膠，留下已曝光部分形成所需的圖形，從而將掩膜版上的圖案精確轉(zhuǎn)移到硅片等襯底材料上。同時(shí)，它還可用于硅片的濕法刻蝕，對(duì)硅等材料進(jìn)行腐蝕加工，制作微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）結(jié)構(gòu)，如加速度計(jì)、壓力傳感器等。
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